高低温恒温循环槽(-20℃~180℃),MGD20-20实现高温195℃,低温-20℃恒温测试,为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温波动度达到±0.1℃, 应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。
高低温一体恒温槽MGD40-20为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源, 应用于-40℃~180℃(高至温度195℃)石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用
高低温恒温循环槽(-20℃~180℃),MDG20-30实现高温195℃,低温-20℃恒温测试,为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温波动度达到±0.1℃, 应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。
MDG40-54-高低温恒温槽(-40℃~180℃)实现高温195℃,低温-40℃恒温测试,为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温波动度达到±0.1℃, 应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用。
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